刘玉岭教授简介_刘国武教授简介
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刘玉岭教授简介
刘玉岭教授，博士生导师，第九届、十届全国政协委员，国家级有突出贡献的中青年专家，任美国电化学会亚洲分会CMP主席，“纳米电子技术”常务理事，河北工业大学微电子研究所所长，微电子学与固体电子学学科带头人，电子科学与技术博士后流动站主任，南开大学兼职教授，中航集团618研究所特聘技术专家，获全国高校、天津市科技先进工作者，河北高层次拔尖人才，河北省省管优秀专家，河北省十大发明家，天津市劳动模范等荣誉称号。他热爱祖国，热爱党，在科研与教学中勇于创新，业绩突出。
他针对微电子器件制备技术中影响芯片集成度、成品率、可靠性材料问题，在我国率先开展了硅衬底材料诱发二次缺陷、表面状态与钝化、金属杂质、表面吸附粒子、外延层材料厚度与电阻率一致性及其表面雾缺陷；ULSI多层布线中介质与铜布线化学机械全局平面化（CMP）抛光液与抛光技术；固体材料表面吸附物吸附状态控制技术及清洗剂；航空制导定位光学部件、计算机硬盘机片、半导体材料研磨、光学与电子玻璃、红外探测器及照明系统蓝宝石衬底材料、核禁试条件精密物理实验金属材料平面化制造技术等多种材料CMP精密加工关键、前沿技术及其理论的研究。承担和完成了30项国家、省部级重大项目，达到国内领先与国际先进水平，部分项目达到国际领先水平获发明奖的CMP机理模型与技术扩展应用到微电子衬底材料、蓝宝石、电子玻璃、航天制导材料研究、平面化加工等多项发明创造并取得重要研究成果：获国家发明奖5项，省部级科技发明与进步奖19项；获国家科技成果重点推广计划2项，国家级新产品2项，有知识产权的产品19项和4项专有技术，该成果由他当董事长的天津新技术产业园区晶岭高科技有限公司规模化生产，该公司已有资产4100多万元。由于对超大规模集成电路多层铜布线及衬底材料纳米
磨料CMP抛光液与抛光技术取得3项发明专利，达到国际领先水平，因此美国CMP耗材最有影响的Cabot公司多次提出买断该技术，法国Alpsites多次提出合作为了民族企业的发展，并使产品打入国际市场，2004年将他的发明成果又与英国Goden Prasperity Limited组成天津晶岭高科有限公司注册资金2050万元。产品已在中国华晶、华微、有研硅谷、洛阳740、深爱、天马微电子等十多条引进生产线上规模化应用，代替进口产品，并开始出口台湾，取得经济效益超过亿元。他长期在大中企业的第一线解决新技术问题，在科研成果推广中培训技术人员一千余人次。培养硕士、博士38名，发表技术论文118篇，出版专著4部。近两年来，新完成工程项目8项，获天津市发明一等奖1项，并在申报国家发明奖，出版专著2部，获发明专利3项，获天津市“十五”重大攻关项目100万和获国家中小企业创新基金100万；，其“硅片无磨料抛光工艺技术研究”与1999年被国际经济评价（香港）中心评为世界华人重大科学技术成果，发明创造业绩突出。台湾广润科技公司、台湾弘弦科技公司、英国Goden Prasperity Limited公司、国家工程物理九院、中国航空集团飞行自动化控制研究所、兰新集团公司、电子45所、电子2所、河南丹华半导体材料厂等与他签订了技术协议。美国Cabot公司、法国Alpsitec公司亦强烈要求合作。在国内外微电子制备技术及相关材料领域有较高的影响。2004年又有六个项目获得重大理论与技术突破。
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